A mediados del pasado mes de mayo la doctora Kim, una experta en la fabricación de circuitos integrados que ha trabajado en Samsung y que actualmente investiga para TSMC en EEUU, desveló que SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corp) estaba a punto de iniciar la producción de chips de 5 nm. El problema al que se enfrentan SMIC y Huawei, como os hemos explicado en otros artículos, es que el multiple patterning tiene un impacto al alza en el coste de los chips y a la baja en la capacidad de producción. Estas dos compañías chinas se han visto obligadas a utilizar esta técnica en sus equipos de litografía de ultravioleta profundo (UVP) debido a que las prohibiciones de EEUU y Países Bajos impiden a la compañía neerlandesa ASML vender a sus clientes chinos sus máquinas de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE).
Author: Juan Carlos López
Published at: 2025-06-25 18:01:51
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